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光敏变的原理为具有光变功能的化合物在一定的波长和强度的光源激发下，其分子结构会发生可逆变化，直观表现为颜发生变化，当停止激发后，化合物会恢复至初始状态，直观表现为颜消退至初始状态。光敏变染料也和热敏变染料一样，制成微胶囊后再采用涂料印花工艺进行印花。可逆光敏变功能印花(光变印花)，由于织物印花后经紫外光照射后发，故也称紫外光发印花。当织物离开紫外光后，又恢复为无。周而复至，变化无穷。这种光敏变功能印花的织物不仅是获得变幻莫测的乐趣，更是通过紫外光照射后织物发的深浅，知道紫外光的强弱，可对皮肤采取预防保护措施。
光变粉又名感光变粉或光变微胶囊。在阳光的照耀下，感光变粉一般从无变为有，假如是大晴天，紫外线强烈，变的颜鲜艳；反之，假如阴天，紫外线比较弱，变的颜就会比较淡，甚至趋于无。
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这两个因素的选择对光圈影响很大。松开偏心盘（摆动部位）的螺帽，调节摆架的摆幅，合适后拧紧螺帽。改变摆架的摆动位置时，松开摆架各辅助锁紧手柄（螺帽），调整摆架到需要的角度后，再紧固手柄（螺帽）。正确地调节摆幅是控制光圈的重要因素之一。对于半球或超半球的镜片，一般可取偏角15°,摆幅50°,即左摆10°,右摆40°比较合适。检查弧线摆动时的准球心程度，抛光液在缸内不得少于缸体积的3/4；
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微观不规则性是由玻璃磨削的本质决定的。表面结构对精磨过程的影响玻璃磨削后留下凹凸层和裂纹层，抛光工序的效率就取决于这两层的性质。一般的错误概念是认为抛光时粗磨表面的凹凸层越小越好，这是忽略了粗磨表面的微观结构对抛光过程的作用。抛光模，是热固性塑料模，在抛光过程中易于钝化而失去抛光能力。而凹凸层有利于减少或消除这种钝化现象。抛光过程基本上可分成两个阶段，阶段去除凹凸层，第二阶段去除裂纹层。